1.

国際会議録
国際会議録
1. Application of Sampling Quadrupole Mass Spectrometry to Multivarible Process Control
Knight, T.J. ; Cheng, X. ; Krogh, B.H. ; Greve, D.W. ; Gibson, M.A.
出版情報: Proceedings of the Symposium on Process control, Diagnostics, and Modeling in Semiconductor Manufacturing.  pp.157-166,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-2
2.

国際会議録
国際会議録
2. Real-Time Control of PECVD Silicon Nitride Film Properties
Knight, T.J. ; Grave, D.W. ; Cheng, X. ; Krogh, B.H.
出版情報: Proceedings of the eleventh International Symposium on Plasma Processing.  pp.688-699,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-12
3.

国際会議録
国際会議録
3. Model Predictive Control of Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition with Process Variable Constraints
Cheng, X. ; Knight, T.J. ; Greve, D.W. ; Krogh, B.H.
出版情報: Proceedings of the Second International Symposium on Process Control, Diagnostics, and Modeling in Semiconductor Manufacturing.  pp.84-93,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-9