1.

国際会議録
国際会議録
1. Application of Sampling Quadrupole Mass Spectrometry to Multivarible Process Control
Knight, T.J. ; Cheng, X. ; Krogh, B.H. ; Greve, D.W. ; Gibson, M.A.
出版情報: Proceedings of the Symposium on Process control, Diagnostics, and Modeling in Semiconductor Manufacturing.  pp.157-166,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-2
2.

国際会議録
国際会議録
2. Model Predictive Control of Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition with Process Variable Constraints
Cheng, X. ; Knight, T.J. ; Greve, D.W. ; Krogh, B.H.
出版情報: Proceedings of the Second International Symposium on Process Control, Diagnostics, and Modeling in Semiconductor Manufacturing.  pp.84-93,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-9
3.

国際会議録
国際会議録
3. Mass Spectrometer Sensing and Control of Plasma-Enhanced Silicon Nitride Deposition
Knight, T. ; Greve, D.W. ; Cheng, X. ; Krogh, B.
出版情報: Proceedings of the Symposium on Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films.  pp.537-551,  1997.  Pennington, New Jersey.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-10