1.

国際会議録
国際会議録
1. Line-edge roughness in sub-0.18-ｦﾌm resist patterns
Palmateer,S.C. ; Cann,S.G. ; Curtin,J.E. ; Doran,S.P. ; Eriksen,L.M. ; Forte,A.R. ; Kunz,R.R. ; Lyszczarz,T.M. ; Stern,M.B. ; Nelson,C.M.
出版情報: Advances in resist technology and processing XV : 23-25 February 1998, Santa Clara, California.  Part 1  pp.634-642,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3333
2.

国際会議録
国際会議録
2. Pattern asymmetries in phase-edge imaging
Fritze,M. ; Cann,S.G. ; Wyatt,P.
出版情報: Optical microlithography XII : 17-19 March 1999, Santa Clara, California.  Part2  pp.567-581,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3679