1.

国際会議録
国際会議録
1. Overview and status of the Next Generation Lithography Mask Center of Competency
Bouchard,L.
出版情報: Emerging lithographic technologies IV : 28 February-1 March 2000, Santa Clara, USA.  pp.10-18,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3997
2.

国際会議録
国際会議録
2. Next-generation lithography mask development at the NGL-MCOC
Lercel,M.J. ; Racette,K.C. ; Magg,C. ; Lawliss,M. ; Collins,K.W. ; Barrett,M. ; Trybendis,M.J. ; Bouchard,L.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VII.  pp.105-115,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4066