1.

国際会議録
国際会議録
1. *DEFECTS INTRODUCED BY PLASMA PROCESSING OF SILICON
Benton, J. L.
出版情報: Defect engineering in semiconductor growth, processing and device technology : symposium held April 26-May 1, 1992, San Francisco, California, U.S.A..  pp.1027-1036,  1992.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 262
2.

国際会議録
国際会議録
2. The Effect of the Extra Ion on Residual Damage in MeV-Implanted Si
Libertino, S. ; Benton, J. L. ; Coffa, S. ; Jacobson, D. C. ; Eaglesham, D. J. ; Poate, J. M. ; Lavalle, M. ; Fuochi, P. G.
出版情報: Defects and diffusion in silicon processing : symposium held April 1-4, 1997, San Francisco, California, U.S.A..  pp.187-,  1997.  Pittsburg, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 469
3.

国際会議録
国際会議録
3. Impact of Metal Contamination of 7.0 nm Gate Oxides on Various Substrate Materials
Saito, S. ; Hamada, K. ; Eaglesham, D. J. ; Shiramizu, Y. ; Benton, J. L. ; Kitajima, H. ; Jacobson, S. D. C. ; Poate, J. M.
出版情報: Science and technology of semiconductor surface preparation : symposium held April 1-3, 1997, San Francisco, California, U.S.A..  pp.81-,  1997.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 477
4.

国際会議録
国際会議録
4. Characterization of Interstitial Defect Clusters in Ion-Implanted Si
Benton, J. L. ; Libertino, S. ; Coffa, S. ; Eaglesham, D. J.
出版情報: Defects and diffusion in silicon processing : symposium held April 1-4, 1997, San Francisco, California, U.S.A..  pp.193-,  1997.  Pittsburg, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 469
5.

国際会議録
国際会議録
5. Interstitial Defect Reactions in Silicon
Zhao, S. ; Agarwal, A. M. ; Benton, J. L. ; Gilmer, G. H. ; Kimerling, L. C.
出版情報: Defects in electronic materials II : symposium held December 2-6, 1996, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.231-,  1997.  Pittsburgh, Penn.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 442
6.

国際会議録
国際会議録
6. HF-IMMERSION INDUCTIVELY COUPLED CARRIER LIFETIME CHARACTERIZATION OF FURNACE-OXIDE GROWTH
Boone, T. ; Higashi, G. S. ; Benton, J. L. ; Kistler, R. C. ; Weber, G. R. ; Keller, R. C. ; Makris, G.
出版情報: Surface chemical cleaning and passivation for semiconductor processing.  pp.359-,  1993.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 315
7.

国際会議録
国際会議録
7. Correlation of electrical, structural, and optical properties of erbium in silicon
Benton, J. L. ; Eaglesham, D. J. ; Almonte, M. ; Citrin, P. H. ; Marcus, M. A. ; Adler, D. L. ; Jacobson, D. C. ; Poate. J. M.
出版情報: Rare earth doped semiconductors : symposium held April 13-15, 1993, San Francisco, California, U.S.A..  pp.119-,  1993.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 301
8.

国際会議録
国際会議録
8. Impact of Metal Contamination of 7.0 nm Gate Oxides on Various Substrate Materials
Saito, S. ; Hamada, K. ; Eaglesham, D. J. ; Shiramizu, Y. ; Benton, J. L. ; Kitajima, H. ; Jacobson, S. D. C. ; Poate, J. M.
出版情報: Materials reliability in microelectronics VII : symposium held April 8-12, 1997, San Francisco, California, U.S.A..  pp.141-,  1997.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 473