Measurement of Steady State Pressure Distribution and Dynamic Pressure Fluctuations During Sputtering Process — スパッタリングプロセスにおける静的圧力分布, および動的圧力変化の実測 | 東京工業大学附属図書館文献データベース

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スパッタリングプロセスにおける静的圧力分布, および動的圧力変化の実測
Measurement of Steady State Pressure Distribution and Dynamic Pressure Fluctuations During Sputtering Process

著者名:

Takanori ONISHI

岡野夕紀子

さらに 5 件

掲載資料名:

真空 : journal of the Vacuum Society of Japan

発行年:

2017

巻:

60

号:

6

開始ページ:

220

終了ページ:

227

総ページ数:

8

出版情報:

東京: 真空協会

ISSN:

18822398

言語:

日本語

資料種別:

学術雑誌

詳細

TDL書誌ID:	ZA00066506
論文注記:	技術紹介

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