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熱プラズマジェットを用いた熱処理技術の開発と電子デバイスプロセスへの応用
Development of Thermal Plasma Jet Induced Annealing Technology and Its Application to Electronic Device Fabrication

著者名:
掲載資料名:
真空 : journal of the Vacuum Society of Japan
発行年:
2017
巻:
60
号:
3
開始ページ:
77
終了ページ:
80
総ページ数:
4
出版情報:
東京: 真空協会
ISSN:
18822398
言語:
日本語
資料種別:
学術雑誌

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