Effect of Ion Irradiation for Ni Films Prepared on an Acrylonitrile-Butadiene-Styrene Resin Using Unbalanced Magnetron Sputtering Assisted by Inductively Coupled Plasma — 誘導結合プラズマ支援型非平衡マグネトロンスパッタ法によりアクリロニトリル-ブタジエン-スチレン樹脂上に作製したNi薄膜に及ぼすイオン照射の効果 | 東京工業大学附属図書館文献データベース

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誘導結合プラズマ支援型非平衡マグネトロンスパッタ法によりアクリロニトリル-ブタジエン-スチレン樹脂上に作製したNi薄膜に及ぼすイオン照射の効果
Effect of Ion Irradiation for Ni Films Prepared on an Acrylonitrile-Butadiene-Styrene Resin Using Unbalanced Magnetron Sputtering Assisted by Inductively Coupled Plasma

著者名:

掲載資料名:

真空 : journal of the Vacuum Society of Japan

発行年:

2015

巻:

58

号:

7

開始ページ:

257

終了ページ:

260

総ページ数:

4

出版情報:

東京: 真空協会

ISSN:

18822398

言語:

日本語

資料種別:

学術雑誌

詳細

TDL書誌ID:	ZA00066506
論文注記:	速報

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