Oxidation Processes on High-index Silicon Surfaces — シリコン高指数面の酸化過程 | 東京工業大学附属図書館文献データベース

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シリコン高指数面の酸化過程
Oxidation Processes on High-index Silicon Surfaces

著者名:

掲載資料名:

真空 : journal of the Vacuum Society of Japan

発行年:

2015

巻:

58

号:

2

開始ページ:

37

終了ページ:

42

総ページ数:

6

出版情報:

東京: 真空協会

ISSN:

18822398

言語:

日本語

資料種別:

学術雑誌

詳細

TDL書誌ID:	ZA00066506
論文注記:	小特集:半導体表面における極薄膜形成プロセス (2). 解説

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