Plasma Enhanced CVD and Plasma Chemical Etching at Atmospheric Pressure for Continuous Processing of Crystalline Silicon Solar Wafers

著者名:

E. Lopez ( Fraunhofer Institut für Werkstoff- und Strahltechnik (IWS), Dresden, Germany )

B. Dresler ( Fraunhofer Institut für Werkstoff- und Strahltechnik (IWS), Dresden, Germany )

G. Mäder ( Fraunhofer Institut für Werkstoff- und Strahltechnik (IWS), Dresden, Germany )

I. Dani ( Fraunhofer Institut für Werkstoff- und Strahltechnik (IWS), Dresden, Germany )

V. Hopfe ( Fraunhofer Institut für Werkstoff- und Strahltechnik (IWS), Dresden, Germany )

S. Kaskel ( Fraunhofer Institut für Werkstoff- und Strahltechnik (IWS), Dresden, Germany )

M. Heintze ( Centrotherm Photovoltaics GmbH & Co. KG, Blaubeuren, Germany )

R. Möller ( Centrotherm Photovoltaics GmbH & Co. KG, Blaubeuren, Germany )

H. Wanka ( Centrotherm Photovoltaics GmbH & Co. KG, Blaubeuren, Germany )

M. Kirschmann ( Q-Cells AG, Thalheim, Germany; )

J. Frenck ( Q-Cells AG, Thalheim, Germany; )

A. Poruba ( Solartec s.r.o., Roznov pod Radhostem, Germany )

R. Barinka ( Solartec s.r.o., Roznov pod Radhostem, Germany )

R. Dahl ( Centrotherm Photovoltaics Technology GmbH, Konstanz, Germany )

H. Nussbaumer ( Centrotherm Photovoltaics Technology GmbH, Konstanz, Germany )

さらに 10 件

掲載資料名:

51st annual technical conference proceedings, April 19-24, 2008, Chicagom, IL

シリーズ名:

Annual Technical Conference of Society of Vacuum Coaters

シリーズ巻号:

51

発行年:

2008

開始ページ:

622

終了ページ:

626

総ページ数:

5

出版情報:

Albuquerque, NM: Society of Vacuum Coaters

ISSN:

07375921

言語:

英語

請求記号:

A63930/51

資料種別:

国際会議録