Blank Cover Image

Improvement in Thermal Stability of MOCVD HfO₂ Films Using an ALD SiNx Interfacial Layer

著者名:
H. J. Jang
S. H. Hong
T. Park
J. Heo
S. Yang
M. Kim
C. Hwang
さらに 2 件
掲載資料名:
Physics and technology of high-k gate dielectrics III
シリーズ名:
ECS transactions
シリーズ巻号:
1(5)
発行年:
2006
開始ページ:
393
終了ページ:
398
総ページ数:
6
出版情報:
Pennington, N.J.: Electrochemical Society
ISSN:
19385862
ISBN:
9781566774444 [1566774446]
言語:
英語
請求記号:
E23400/1-5
資料種別:
国際会議録

類似資料:

S. H. Hong, J. Kim, T. Park, J. Won, R. Jung, S. Kim, C. Hwang, M. J. Cho

Electrochemical Society

C. Choi, M. Jang, Y. Kim, M. Jeon, S. Lee, H. Yang, R. Jung, M Chang, H. Hwang

Electrochemical Society

J. Kim, T. Park, C. Hwang, S. H. Hong, M. Seo

Electrochemical Society

Baik, K.H., Ahn, S.J., Park, C.G., Lee, S.Y., Ahn, S.

Trans Tech Publications

T. Park, J. Kim, J. Jang, M. Seo, C. Hwang

Electrochemical Society

T. Park, J. Kim, C. Hwang

Electrochemical Society

J. Kim, T. Park, M. Cho, M. Seo, J. Jang, C. Hwang

Electrochemical Society

Leedham, T.J., Davies, H.O., Jones, A.C., O'Sullivan, B.J., Mondreau, M., Hurley, P.K., Fang, Q., Boyd, I.W.

Electrochemical Society

C. Hwang, T. Park, J. Kim, S. H. Hong, M. Seo, J. H. Jang

Electrochemical Society

Hwang, H.-N., Han, K.C., An, K.-S., Chung, T.-M., Kim, Y.

Electrochemical Society

Delabie, Annelies, Caymax, M., Maes, J.W., Bajolet, P., Brijs, B., Cartier, E., Conard, T., Gendt, S.De, Richard, O., …

Materials Research Society

1
 
2
 
3
 
4
 
5
 
6
 
7
 
8
 
9
 
10
 
11
 
12