Improvement in Thermal Stability of MOCVD HfO₂ Films Using an ALD SiNx Interfacial Layer
- 著者名:
H. J. Jang S. H. Hong T. Park J. Heo S. Yang M. Kim C. Hwang - 掲載資料名:
- Physics and technology of high-k gate dielectrics III
- シリーズ名:
- ECS transactions
- シリーズ巻号:
- 1(5)
- 発行年:
- 2006
- 開始ページ:
- 393
- 終了ページ:
- 398
- 総ページ数:
- 6
- 出版情報:
- Pennington, N.J.: Electrochemical Society
- ISSN:
- 19385862
- ISBN:
- 9781566774444 [1566774446]
- 言語:
- 英語
- 請求記号:
- E23400/1-5
- 資料種別:
- 国際会議録
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