Thermal Stability of LaOx/Si Interfacial Transition Layer
- 著者名:
H. Nohira T. Yoshida H. Okamoto W. Sakai K. Nakajima M. Suzuki K. Kimura N. J. Aun Y. Kobayashi S. Obmi H. Iwai E. Ikenaga K. Kobayashi Y. Takata T. Hattori - 掲載資料名:
- Physics and Chemistry of SiO2 and the Si-SiO2 Interface-5
- シリーズ名:
- ECS transactions
- シリーズ巻号:
- 1(1)
- 発行年:
- 2005
- 開始ページ:
- 87
- 終了ページ:
- 96
- 総ページ数:
- 10
- 出版情報:
- Pennington, N.J.: Electrochemical Society
- ISSN:
- 19385862
- ISBN:
- 9781566774307 [1566774306]
- 言語:
- 英語
- 請求記号:
- E23400/1-1
- 資料種別:
- 国際会議録
類似資料:
MRS-Materials Research Society | |
Electrochemical Society |
MRS - Materials Research Society |
Electrochemical Society | |
Trans Tech Publications |
Electrochemical Society |
5
国際会議録
Effect of Deposition Temperature on Chemical Structure of Lanthanum Oxide/Si Interface Structure
Electrochemical Society |
Electrochemical Society |