Diffusion of Ion-Implanted Boron and Silicon in Germanium
- 著者名:
Uppal, Suresh Willoughby, A.F.W. Bonar, J.M. Cowern, N.E.B. Morris, R.J.H. Dowsett, M.G. - 掲載資料名:
- High-mobility group-IV materials and devices : symposium held April 13-15, 2004, San Francisco, California, U.S.A.
- シリーズ名:
- Materials Research Society symposium proceedings
- シリーズ巻号:
- 809
- 発行年:
- 2004
- 開始ページ:
- 237
- 終了ページ:
- 242
- 総ページ数:
- 6
- 出版情報:
- Warrendale, Pa.: Materials Research Society
- ISSN:
- 02729172
- ISBN:
- 9781558997592 [1558997598]
- 言語:
- 英語
- 請求記号:
- M23500/809
- 資料種別:
- 国際会議録
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