Chemical-Mechanical Polishing of Metals: the Role of Metal Concentration Gradient

著者名:

Osseo-Asare, K.  

掲載資料名:

Proceedings of the Second International Symposium on Chemical Mechanical Planariarization [sic] in Integrated Circuit Device Manufacturing

シリーズ名:

Electrochemical Society Proceedings Series

シリーズ巻号:

98-7

発行年:

1998

開始ページ:

173

終了ページ:

180

出版情報:

Pennington, N. J.: Electrochemical Society

ISSN:

01616374

ISBN:

9781566772013 [156677201X]

言語:

英語

請求記号:

E23400/98-7

資料種別:

国際会議録