Blank Cover Image

A Reduced Moment-Based Model for Precipitation Kinetics and Application to Dopant Activation in Silicon

著者名:
掲載資料名:
ULSI science and technology, 1995 : proceedings of the Fifth International Symposium on Ultra Large Scale Integration Science and Technology
シリーズ名:
Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号:
95-5
発行年:
1995
開始ページ:
21
終了ページ:
31
出版情報:
Pennington, NJ: Electrochemical Society
ISSN:
01616374
ISBN:
9781566770996 [1566770998]
言語:
英語
請求記号:
E23400/952065
資料種別:
国際会議録

類似資料:

Clejan, I., Dunham, S.T.

Electrochemical Society

Dunham, S. T., Wittel, F.

Electrochemical Society

Dunham, S.T.

Electrochemical Society

Matsuoka, M.A., Dunham, S.T.

Electrochemical Society

Clejan, I., Dunham, S. T.

Electrochemical Society

Gencer, A. H., Chakravarthi, S., Clejan, I., Dunham, S. T.

MRS - Materials Research Society

Dunham, S.T., Wittel, F.

Electrochemical Society

Agarwal, A.M., Dunham, S.T.

Electrochemical Society

Dunham, S.T.

Electrochemical Society

Gencer, A.H., Dunham, S.T.

Electrochemical Society

Banerice, S., Dunham, S.T.

Electrochemical Society

Fastenko, P., Dunham, S.T.

Electrochemical Society

1
 
2
 
3
 
4
 
5
 
6
 
7
 
8
 
9
 
10
 
11
 
12