Aberration optimizing system using Zernike sensitivity method

著者名:

Shimizu, Y. ( Nikon Corp. (Japan) )

Yamaguchi, T. ( Nikon Systems Inc. (Japan) )

Suzuki, K. ( Nikon Corp. (Japan) )

Shiba, Y. ( Nikon Corp. (Japan) )

Matsuyama, T. ( Nikon Corp. (Japan) )

Hirukawa, S. ( Nikon Corp. (Japan) )

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掲載資料名:

Optical Microlithography XVI

シリーズ名:

Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering

シリーズ巻号:

5040

発行年:

2003

巻:

Part Three

開始ページ:

1581

終了ページ:

1590

総ページ数:

10

出版情報:

Bellingham, Wash.: SPIE-The International Society for Optical Engineering

ISSN:

0277786X

ISBN:

9780819448453 [0819448451]

言語:

英語

請求記号:

P63600/5040

資料種別:

国際会議録