Sugishima, N., Masaki, M., Kugai, J., Kuma, R., Kobayashi, M.
Elsevier
|
Minghui Zhu, Yuanyuan He, Michael Ford, Uma Tumuluri, Zili Wu
American Institute of Chemical Engineers
|
Gonzalez, M. G., Quincoces, C. E., de Figueiredo, A., Lavat, A.
American Institute of Chemical Engineers
|
Rana, M. S., Srinivas, B. N., Maity, S. K., Dhar, G. M., Rao, T. S. R. Prasada
Elsevier
|
Hultermans, R. J., Ito, E., Jozsef, A., Lugt, P. M., Bleek, C. M. van den
Elsevier
|
Masters, S.G., Oehlers, C., Nielsen, K., Eriksen, K.M., Fehrmann, R., Chrissanthopoulos, A., Boghosian, S.
Electrochemical Society
|
Egues, S., Resende, N.S. de, Schmal, M.
Elsevier
|
Wark, Michael, Angelika, Brueckner, Piehl, Guido, Gruenert, Wolfgang, Liese, Thorsten
American Institute of Chemical Engineers
|
Chae, H. J., Nam, I. -S., Kim, Y. G., Yang, H. S., Choi, H. C., Song, S. L.
Elsevier
|
Rocha, A. O., Jr., Chagas, A. L., Sune, L. S. V. S., Lopes, M. F. S., Pereira, J. A. F. R.
Elsevier
|
Soh, B. -W., Nam, I. -S., Lee, J. -B., Kim, Y. G.
Elsevier
|
Sano, K., Sugishima, N., Ikeda, M., Yoshino, K., Okamura, J.
Elsevier
|