1.

国際会議録
国際会議録
1. Second generation fluids for 193 nm immersion lithography
Yu, S.-S. ; Lin, B. J.
出版情報: Optical microlithography XVIII : 1-4 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.427-434,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5754
2.

国際会議録
国際会議録
2. 90-nm lithography process characterization using ODP scatterometry technology
Ke, C.-M. ; Yu, S.-S. ; Wang, Y.-H. ; Chou, Y.-J. ; Chen, J.-H. ; Lee, B.-H. ; Chu, H.-Y. ; Lin, H.-T. ; Gau, T.-S. ; Lin, C.-H. ; Ku, Y.-C. ; Lin, B.J. ; Huang, J. ; Hsu, J.J. ; Liu, V. ; Hetzer, D. ; Yap, L. ; Yang, W. ; Araki, K.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII.  pp.597-604,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5375
3.

国際会議録
国際会議録
3. Mask pattern fidelity quantification
Wang, W.-C. ; Chang, S.-M. ; Chin, C.C. ; Lu, C.-L. ; Chin, A.S.J. ; Hsieh, H.-C. ; Yu, S.-S.
出版情報: 23rd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.266-275,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5256