1.

国際会議録
国際会議録
1. Double patterning scheme for sub-0.25 k1 single damascene structures at NA=0.75, λ-193nm
Maenhoudt, M. ; Versluijs, J. ; Struyf, H. ; Olmen, J. Van ; Hove, M. Van
出版情報: Optical microlithography XVIII : 1-4 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.1508-1518,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5754
2.

国際会議録
国際会議録
2. Early learning on hyper-NA lithography using two-beam immersion interference [6154-70]
Hendrickx, E. ; Op de Beeck, M. ; Gronheid, R. ; Versluijs, J. ; Van Look, L. ; Ercken, M. ; Vandenberghe, G.
出版情報: Optical Microlithography XIX.  pp.61541X-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6154