1.

国際会議録
国際会議録
1. Effects of Thermal Processing on Photoluminescence of Si Nanocrystallites Prepared by Pulsed Laser Ablation
Umezu, I. ; Shibata, K. ; Yamaguchi, S. ; Sato, H. ; Sugimura, A. ; Y. Yamada ; T.Yoshida
出版情報: Proceedings of the Fifth International Symposium on Quantum Confinement : nanostructures.  pp.40-48,  1998.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 98-19
2.

国際会議録
国際会議録
2. Effect of Plasma Damage on Interface State Density Between a-Si:H and Insulating Films
Umezu, I. ; Kuwamura, T. ; Maeda, K.
出版情報: Amorphous silicon technology, 1995 : Symposium held April 18-21, 1995, San Francisco, California, U.S.A..  pp.9-,  1995.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 377
3.

国際会議録
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3. Temperature-Dependent Photoluminescence of Silicon Nanocrystallites Prepared by Inert-Gas-Ambient Pulsed Laser Ablation
Umezu, I. ; Yamaguchi, S. ; Shibata, K. ; Sugimura, A. ; Yamada, Y. ; Yoshida, T.
出版情報: Materials and devices for silicon-based optoelectronics : symposium held December 1-3, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.219-,  1998.  Warrendale, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 486
4.

国際会議録
国際会議録
4. Surface Reaction Mechanism During Deposition of a-Si:H by PECVD
Maeda, K. ; Kuroe, A. ; Umezu, I.
出版情報: Amorphous silicon technology, 1995 : Symposium held April 18-21, 1995, San Francisco, California, U.S.A..  pp.131-,  1995.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 377
5.

国際会議録
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5. Photoluminescence From Nanoscale Si in a-SiOx Matrix
Umezu, I. ; Yoshida, K. ; Inada, M. ; Sugimura, A.
出版情報: Microcrystalline and nanocrystalline semiconductors-2000 : symposium held November 27-30, 2000, Boston, Massachusetts, U.S.A..  2001.  Warrendale, PA..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 638