1.

国際会議録
国際会議録
1. CD-SEM image acquisition effects on 193-nm resists line slimming
Sullivan, N.T. ; Mastovich, M.E. ; Bowdoin, S. ; Brandom, R.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XVII.  1  pp.618-623,  2003.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5038
2.

国際会議録
国際会議録
2. Electron beam metrology of 193-nm resists at ultralow voltage
Sullivan, N.T. ; Dixson, R. ; Bunday, B.D. ; Mastovich, M.E. ; Knutrud, P.C. ; Fabre, P. ; Brandom, R.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XVII.  1  pp.483-492,  2003.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5038
3.

国際会議録
国際会議録
3. CD-SEM-based critical shape metrology of integrated circuits
Gorelikov, D.V. ; Remillard, J. ; Sullivan, N.T.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII.  pp.605-613,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5375
4.

国際会議録
国際会議録
4. Low-impact resist metrology: the use of ultralow voltage for high-accuracy performance
Sundaram, G. ; Sullivan, N.T. ; Mai, T. ; Ke, C.-M.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII.  pp.675-685,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5375