1.

国際会議録
国際会議録
1. Experimental study of line-end shortening
Shi, X. ; Socha, R. J. ; Bendik, J. ; Dusa, M. V. ; Conley, W. ; Su, B.
出版情報: Microlithography 1999 : advances in resist technology and processing XVI : 15-17 March 1999, Santa Clara, California.  pp.777-784,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3678
2.

国際会議録
国際会議録
2. Resolution enhancement with high-transmission attenuating phase-shift masks
Socha, R. J. ; Conley, W. E. ; Shi, X. ; Dusa, M. V. ; Petersen, J. S. ; Chen, F. ; Wampler, K. E. ; Laidig, T. L. ; Caldwell, R. F.
出版情報: Photomask and X-Ray Mask Technology VI.  pp.290-314,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3748
3.

国際会議録
国際会議録
3. Halftone biasing OPC technology: an approach for achieving fine bias control on raster-scan systems
Nakagawa, K. H. ; Chen, J. F. ; Socha, R. J. ; Laidig, T. L. ; Wampler, K. E. ; Van Den Broeke, D. ; Dusa, M. V. ; Caldwell, R. F.
出版情報: Photomask and X-Ray Mask Technology VI.  pp.315-323,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3748
4.

国際会議録
国際会議録
4. Process results using automatic pitch decomposition and double patterning technology (DPT) at k1eff <0.20 [6349-36]
Huckabay, J. ; Staud, W. ; Naber, R. ; van Oosten, A. ; Nikolski, P. ; Hsu, S. ; Socha, R. J. ; Dusa, M. V. ; Flagello, D.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.634910-634911,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349
5.

国際会議録
国際会議録
5. RET masks for the final frontier of optical lithography [5853-104]
Chen, J. F. ; Broeke, D. van den ; Hsu, S. ; Hsu, M. C.W. ; Laidig, T. ; Shi, X. ; Chen, T. ; Socha, R. J. ; Hollerbach, U. ; Wampler, K. E. ; Park, J. ; Park, S. ; Gronlund, K.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII.  pp.168-179,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5853