1.

国際会議録
国際会議録
1. Overlay considerations for 300-mm lithography
Mono, T. ; Schroeder, U.P. ; Nees, D. ; Palitzsch, K. ; Koestler, W. ; Bruch, J. ; Kramp, S. ; Veldkamp, M. ; Schuster, R.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XVII.  1  pp.121-125,  2003.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5038
2.

国際会議録
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2. Exposure field size considerations for yield
Schroeder, U.P. ; Kunkel, G.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part Two  pp.906-911,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
3.

国際会議録
国際会議録
3. Investigation of systematical overlay errors limiting litho process performance of thick implant resists
Grandpierre, A.G. ; Schiwon, R. ; Bruch, J.-. ; Nacke, C. ; Schroeder, U.P.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII.  pp.1118-1124,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5375
4.

国際会議録
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4. Matching OPC and masks on 300-mm lithography tools utilizing variable illumination settings
Palitzsch, K. ; Kubis, M. ; Schroeder, U.P. ; Schumacher, K. ; Frangen, A.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.872-880,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377