1.

国際会議録
国際会議録
1. 0.7-NADUV step-and-scan system for 150-nm imaging with improved overlay
Schoot,J.van ; Bornebroek,F. ; Suddendorf,M. ; Mulder,M. ; Spek,J.van der ; Stoeten,J. ; Hunter,A. ; Rummer,P.
出版情報: Optical microlithography XII : 17-19 March 1999, Santa Clara, California.  Part1  pp.448-463,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3679
2.

国際会議録
国際会議録
2. Mask error factor:causes and implications for process latitude
Schoot,J.van ; Finders,J. ; Schenau,K.van Ingen ; Klaassen,M. ; Buijk,C.
出版情報: Optical microlithography XII : 17-19 March 1999, Santa Clara, California.  Part1  pp.250-260,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3679
3.

国際会議録
国際会議録
3. Understanding systematic and random CD variations using predictive modeling techniques
Flagello,D.G. ; Laan,H.van der ; Schoot,J.van ; Bouchoms,I. ; Geh,B.
出版情報: Optical microlithography XII : 17-19 March 1999, Santa Clara, California.  Part1  pp.162-175,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3679
4.

国際会議録
国際会議録
4. Performance of a step-and-scan system for DUV lithography
Zwart,G.de ; Brink,M.A.van den ; George,R.A. ; Satriasaputra,D. ; Basselmans,J. ; Butler,H. ; Schoot,J.van ; Klerk,J.de
出版情報: Optical Microlithography X.  pp.817-835,  1997.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3051