1.

国際会議録
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1. PARAMETRIC CHARACTERIZATION OF PLASMA ETCHING PROCESSES
Mocella, M. T. ; Jenkins, M. W. ; Sawin, H. H. ; Allen, K. D.
出版情報: Plasma synthesis and etching of electronic materials : symposium held November 27-30, 1984, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.227-234,  1985.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 38
2.

国際会議録
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2. KINETIC ANALYSIS OF CHOLOROFLUOROCARBON DISCHARGES
Sawin, H. H. ; Yokozeki, A. ; Owens, A. J. ; Allen, K. D.
出版情報: Plasma synthesis and etching of electronic materials : symposium held November 27-30, 1984, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.235-242,  1985.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 38
3.

国際会議録
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3. A novel integrated MEMS process using fluorocarbon films deposited with a deep reactive ion etching (DRIE) tool
Ayon, A. A. ; Chen, D-Z. ; Khanna, R. ; Braff, R. ; Sawin, H. H. ; Schmidt, M. A.
出版情報: Materials science of microelectromechanical systems (MEMS) devices II : symposium held November 29-December 1, 1999, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.141-,  2000.  Warrendale, Pa..  MRS-Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 605
4.

国際会議録
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4. A NOVEL MOLECULAR BEAM REACTOR FOR THE STUDY OF DIAMOND SURFACE CHEMISTRY
Wolden, C. A. ; Zau, G. ; Conner, W. T. ; Sawin, H. H. ; Gleason, K. K.
出版情報: Gas-phase and surface chemistry in electronic materials processing : symposium held November 29-December 2, 1993, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.123-,  1994.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 334
5.

国際会議録
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5. Alternatives to Perfluorocarbons as Plasma Processing Gases: SiO2 Etching Using C2F5H and C2F4H2
Mohindra, V. ; Sawin, H. H. ; Mocella, M.T. ; Cook, J.M. ; Flanner, J. ; Turmel, O.
出版情報: Proceedings of the tenth symposium on plasma processing.  pp.300-310,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-20
6.

国際会議録
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6. Options for Environmentally Impacted Perfluorinated Gases Used in Plasma Processing
Mocella, M.T. ; Mohindra, V. ; Sawin, H. H.
出版情報: Proceedings of the tenth symposium on plasma processing.  pp.192-200,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-20