1.

国際会議録
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1. Complementary dipole exposure solutions at 0.29 k1
Heumann, J. ; Schramm, J. ; Birnstein, A. ; Park, K. T. ; Witte, T. ; Morgana, N. ; Hennig, M. ; Pforr, R. ; Thiele, J. ; Schmidt, N. ; Aquino, C.
出版情報: Optical microlithography XVIII : 1-4 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.327-338,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5754
2.

国際会議録
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2. Superplastic Behavior of As-Equal Channel Angular Pressed 5083 Al and 5083 Al-0.2 Sc Alloys
Park, K. T. ; Lee, C. S. ; Shin, D. H.
出版情報: PRICM 5 : the Fifth Pacific Rim International Conference on Advanced Materials and Processing, November 2-5, 2004, Beijing, China.  pp.2937-2940,  2005.  Uetikon-Zuerich.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 475-479(4)
3.

国際会議録
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3. Simulation of quartz phase etch affect on performance of ArF chrome-less hard shifter for 65-nm technology [5853-57]
Park, K. T. ; Sczyrba, M. ; Bubke, K. ; Pforr, R.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII.  pp.722-730,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5853
4.

国際会議録
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4. Image degradation due to phase effects in chromeless phase lithography [6349-38]
Bubke, K. ; Sczyrba, M. ; Park, K. T. ; Neubauer, R. ; Pforr, R. ; Reichelt, J. ; Ziebold, R.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.634913-634914,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349
5.

国際会議録
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5. ICP (inductively coupled plasma) dry etch of DUV MoSi HTPSM
Lee, K. Y. ; Kim, L. J. ; Nam, K. -H. ; Park, K. T. ; Ku, Y. M. ; Ku, S. S. ; Hur, I. B.
出版情報: Photomask and X-Ray Mask Technology VI.  pp.158-165,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3748