1.

国際会議録
国際会議録
1. Diamonds in the rough: key performance indicators for reticles and design sets
P. Ackmann
出版情報: Photomask technology 2008.  2  pp.71222M-1-71222M-17,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7122
2.

国際会議録
国際会議録
2. Optimal mask characterization by Surrogate Wafer Print (SWaP) method
K. R. Kimmel ; I. Hoellein ; J. H. Peters ; P. Ackmann ; B. Connolly
出版情報: Photomask technology 2008.  1  pp.712219-1-712219-10,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7122
3.

国際会議録
国際会議録
3. Technology interactions on reticle delivery
P. Ackmann ; S. Goad ; C. West
出版情報: Photomask technology 2008.  2  pp.712234-1-712234-10,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7122