1.

国際会議録
国際会議録
1. W and WSi-2 Deposition by the Reaction of Poly-Crystalline Si and WF6
Schaffnit, C. ; Sabuoret, E. ; Van der Jeugd, C.V. ; Oosterlaken, T.G.M. ; Jansen, G.C.A.M. ; Radelaar, S.
出版情報: Proceedings of the Symposium on Interconnect and Contact Metallization.  pp.47-55,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-31
2.

国際会議録
国際会議録
2. The Kinetics of Tungsten Deposition from a H2/WF6- Mixture Studied by In-Situ Laser Raman Scattering
Oosterlaken, T.G.M. ; Leusink, G.J. ; Janssen, G.C.A.M. ; Radelaar, S.
出版情報: Proceedings of the Thirteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition.  pp.808-813,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-5