1.

国際会議録
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1. Synthesis of fluorinated materials for 193-nm immersion lithography and 157-nm lithography
Lee, C. H. ; Han, S. ; Park, K. S. ; Kang, H. Y. ; Oh, H. W. ; Lee, J. E. ; Kim, K. M. ; Kim, Y. H. ; Kim, T. S. ; Oh, H.-K.
出版情報: Advances in resist technology and processing XXII : 28 February-2 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.564-571,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5753(1)
2.

国際会議録
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2. Cycloolefin copolymer containing hindered hydroxyl group for 1 93nm photoresist
Kim, S.-K. ; An, I. ; Oh, H.-K. ; Lee, S. M. ; Bok, C. K. ; Moon, S. C.
出版情報: Advances in resist technology and processing XXII : 28 February-2 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.592-602,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5753(1)
3.

国際会議録
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3. The evaluation of aberration effects according to pattern shape and duly ratio
Lee, J.-E. ; Park, S.-W. ; Lee, C.-H. ; Oh, H.-W. ; Bae, S.-Y. ; Oh, H.-K.
出版情報: Optical microlithography XVIII : 1-4 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.1738-1749,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5754
4.

国際会議録
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4. Nanomolecular resists with adamantane core for 193-nm lithography
Kim, S.-K. ; An, I. ; Oh, H.-K. ; Lee, S. M. ; Bok, C. K. ; Moon, S. C.
出版情報: Advances in resist technology and processing XXII : 28 February-2 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.603-610,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5753(1)
5.

国際会議録
国際会議録
5. EUV microexposures at the ALS using the 0.3-NA MET projection optics
Jeon, Y.-D. ; Choi, M.-K. ; Kim, E.-J. ; Kim, J.-S. ; Oh, H.-K.
出版情報: Emerging lithographic technologies IX : 1-3 March 2005, San Jose, California, USA.  pp.56-63,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5751
6.

国際会議録
国際会議録
6. Haze detection and haze-induced process latitude variation for low-ki 193 nm lithography [6349-105]
Kim, S.-J. ; Park, J.-B. ; Kim, S.H. ; Kang, H.-Y. ; Kang, Y.-M. ; Park, S.-W. ; An, I. ; Oh, H.-K.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.63492T-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349
7.

国際会議録
国際会議録
7. ArF photoresist parameter optimization for mask error enhancement factor reduction [5853-60]
Lee, C. H. ; Han, S. ; Park, K. S. ; Yoon, S. ; Kang, H. Y. ; Oh, H. W. ; Lee, J. E. ; Kim, Y. H. ; Kim, T. S. ; Oh, H.-K.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII.  pp.749-756,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5853
8.

国際会議録
国際会議録
8. Optimization of chromeless phase mask by comparing scattering bars with zebra patterns [6154-82]
Kong, H. Y. ; Lee, J. E. ; Kwak, E.-A ; Kim, E.-J. ; Park, S.-W. ; Kim, S.-H. ; Shin, D. S. ; Jeong, H. ; Oh, H.-K.
出版情報: Optical Microlithography XIX.  pp.615429-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6154
9.

国際会議録
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9. Simulation of mask induced polarization effect on imaging in immersion lithography [6154-105]
Kwak, E. A. ; Jung, M. R. ; Kim, D.-G. ; Lee, J.-E. ; Oh, H.-K. ; Lee, S.
出版情報: Optical Microlithography XIX.  pp.61542T-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6154
10.

国際会議録
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10. Evaluation of partial coherent imaging using the transfer function in immersion lithography [6154-103]
Jung, M. R. ; Kwak, E. A. ; Oh, H.-K. ; Shim, S.-B. ; Choi, N.-R. ; Kim, J.-S.
出版情報: Optical Microlithography XIX.  pp.61542R-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6154