1.

国際会議録
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1. Measurement technique of nontelecentricity of pupil-fill and its application to 60 nm NAND flash memory patterns
Anderson, S. A. ; Neubauer, R. ; Kumar, A. ; Ibrahim, I.
出版情報: Optical microlithography XVIII : 1-4 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.294-302,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5754
2.

国際会議録
国際会議録
2. Alternating PSM balancing characterization: a comparative study using AIMS and wafer print data [6154-163]
Sczyrba, M. ; Kahle, R. ; Bubke, K. ; Pforr, R. ; Neubauer, R.
出版情報: Optical Microlithography XIX.  pp.615448-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6154
3.

国際会議録
国際会議録
3. Image degradation due to phase effects in chromeless phase lithography [6349-38]
Bubke, K. ; Sczyrba, M. ; Park, K. T. ; Neubauer, R. ; Pforr, R. ; Reichelt, J. ; Ziebold, R.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.634913-634914,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349