1.

国際会議録
国際会議録
1. Immersion effects on lithography system performance [6154-30]
Nagahara, S. ; Pollentier, I. ; Machida, T. ; O’Brien, S. ; Jacobs, E. ; Schaap, C. ; Leroy, P. ; Storms, G. ; Nafus, K. ; Laidler, D. ; Cheng, S.
出版情報: Optical Microlithography XIX.  pp.61540U-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6154
2.

国際会議録
国際会議録
2. Simulation of sub-90-nm node complementary phase-shift processes with ArF lithography
Cheng, M. ; Ho, B.C.P. ; Nafus, K.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part Two  pp.1146-1155,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
3.

国際会議録
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3. Line-edge roughness (LER) optimization on 300-mm DUV alternating phase shift (altPSM) processes
Ho, B.C.P. ; Guenther, D. ; Cheng, M. ; Sotoodeh, K. ; Rudack, A. ; Yamaguchi, R. ; Brown, B. ; Ickes, M. ; Nafus, K.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XX.  2  pp.1229-1241,  2003.  Bellingham, CA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5039