1.

国際会議録
国際会議録
1. Phase shifting mask as a precision instrument for characterizing image-forming optical systems [5878-08]
Mcintyre, G. ; Robbins, G. ; Neureuther, A.
出版情報: Advanced characterization techniques for optics, semiconductors, and nanotechnologies II : 2-4 August, 2005, San Diego, California, USA.  pp.587808-,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5878
2.

国際会議録
国際会議録
2. Layout ’hot spots’ for advancing optical technologies [6154-140]
Holwill, J. ; Mcintyre, G. ; Poppe, W. ; Neureuther, A R.
出版情報: Optical Microlithography XIX.  pp.61543M-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6154
3.

国際会議録
国際会議録
3. Experimental verification of PSM polarimetry: monitoring polarization at 193-nrn high-NA with phase-shift masks [6154-13]
Mcintyre, G. ; Neureuther, A. ; Slonaker, S. ; Vellanki, V. ; Reynolds, P.
出版情報: Optical Microlithography XIX.  pp.61540D-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6154
4.

国際会議録
国際会議録
4. The effects of the photomask on multiphase shift test monitors [6349-135]
Mcintyre, G. ; Neureuther, A.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.634912-634912,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349