1.

国際会議録
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1. Noise modeling and performance in 0.1 5-μm fully depleted SOI MOSFET
Pailloncy, G. ; Ihiguez, B. ; Dambrine, G. ; Dehan, M. ; Raskin, J.-P. ; Matsuhashi, H. ; Delatte, P. ; Danneville, F.
出版情報: Noise in devices and circuits II : 26-28 May 2004, Maspalomas, Gran Canaria, Spain.  pp.122-130,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5470
2.

国際会議録
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2. DEPOSITION OF a-SiNx FILMS BY ArF LASER INDUCED CVD AS DIAGNOSED BY OPTICAL EMISSION SPECTROSCOPY
Nishikawa. S ; Matsuhashi, H. ; Ishida, T. ; Ohno, S ; Ushio, S.
出版情報: Amorphous silicon semiconductors -- Pure and hydrogenated : symposium held April 21-24, 1987, Anaheim, California, U.S.A..  pp.267-272,  1987.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 95
3.

国際会議録
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3. ArF LASER-INDUCED CHEMICAL-VAPOR DEPOSITION OF TUNGSTEN FOR GATE ELECTRODES
Matsuhashi, H. ; Nishikawa, S. ; Ohno, S.
出版情報: Laser and particle-beam chemical processes on surfaces : symposium held November 29-December 2, 1988, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.63-68,  1989.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 129
4.

国際会議録
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4. Synthesis of Solid Superacid of Borate Supported on Zirconium Oxides
Matsuhashi, H. ; Kato, K. ; Arata, K.
出版情報: Acid-base catalysis II : proceedings of the International Symposium on Acid-Base Catalysis II, Sapporo, December 2-4, 1993.  pp.251-,  1994.  Tokyo.  Elsevier
シリーズ名: Studies in surface science and catalysis
シリーズ巻号: 90
5.

国際会議録
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5. Fully depleted SOI process and device technology for digital and RF application
Ichikawa, F. ; Nagatomo, Y. ; Katakura, Y. ; Itoh, S. ; Matsuhashi, H. ; Hirashita, N. ; Baba, S.
出版情報: Silicon-on-insulator technology and devices XI : proceedings of the international symposium.  pp.123-132,  2003.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-5
6.

国際会議録
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6. Fully Depleted SOI Process and Device Technology for Digital and RF Applications*
Ichikawa, F. ; Nagatomo, V. ; Katakura, V. ; Itoh, S. ; Matsuhashi, H. ; Hirashita, N. ; Baba, S.
出版情報: ULSI Process Integration : proceedings of the International Symposium.  pp.546-555,  2003.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-6
7.

国際会議録
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7. Electromigration Reliability Of Dual-Damascene Cu/Oxide Interconnets
Ogawa, E.T. ; Blaschke, V.A. ; Bierwag, A. ; Lee, K. ; Matsuhashi, H. ; Griffiths, D. ; Ramamurthi, A. ; Justison, P.R. ; Havemann, R.H. ; Ho, P.S.
出版情報: Materials, technology and reliability for advanced interconnects and low-k dielectrics : symposium held April 23-27, 2000, San Francisco, California, U.S.A..  pp.D2.3-,  2001.  Warrendale, PA.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 612