1.

国際会議録
国際会議録
1. Advanced process control for poly-Si gate etching using integrated CD metrology
Kota, G.P. ; Luque, J. ; Vahedi, V. ; Khathuria, A. ; Dziura, T.G. ; Levy, A.
出版情報: Advanced process control and automation : 27 February, 2003, Santa Clara, California, USA.  pp.90-96,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5044
2.

テクニカルペーパー
テクニカルペーパー
2. Optical measurements to characterize a dc-arcjet plasma during diamond CVD
Luque, J. ; Juchmann, W. ; Jeffries, J.B.
出版情報: AIAA paper.  pp.1-12,  1997.  American Institute of Aeronautics and Astronautics
シリーズ名: AIAA Paper : Aerospace Sciences Meeting and Exhibit
シリーズ巻号: 1997
3.

国際会議録
国際会議録
3. Advanced process control applied to 90-nm lithography and etch
Kota, G.P. ; Luque, J. ; Dusa, M.V. ; Hunter, A.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part Two  pp.972-978,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040