1.

国際会議録
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1. Environmantal Effects on Thin-film Pellicles Determind by Modal Analysis
MacDonald, J.S. ; Engelstad, R.L. ; Lovell, E.G.
出版情報: Proceedings of IMAC-XX : a Conference on Structural Dynamics, February 4-7, 2002, The Westin Los Angeles Airport, Los Angeles, California.  Volume II  pp.991-997,  2002.  Bethel, CT.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4753
2.

国際会議録
国際会議録
2. Comparison of EUV and optical device wafer heating
Chang, J. ; Engelstad, R.L. ; Lovell, E.G.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies VII.  2  pp.690-699,  2003.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5037
3.

国際会議録
国際会議録
3. Reduction of image placement errors in EPL masks (Invited Paper)
II, O.R.W. ; Reu, P.L. ; Engelstad, R.L. ; Lovell, E.G. ; Lercel, M.J. ; Thiel, C.W. ; Lawliss, M.S. ; Mackay, R.S.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies VII.  1  pp.521-530,  2003.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5037
4.

国際会議録
国際会議録
4. Experimental and numerical studies of the response of photomask hard pellicles to acoustic excitation
Cotte, E.P. ; Reu, P.L. ; Engeistad, R.L. ; Lovell, E.G. ; Grenville, A. ; Van Peski, C.K.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part Two  pp.1121-1132,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
5.

国際会議録
国際会議録
5. Effects of soft pellicle frame curvature and mounting process on pellicle-induced distortions in advanced photomasks
Cotte, E.P. ; Engelstad, R.L. ; Lovell, E.G. ; Tanzil, D. ; Eschbach, F.O. ; Korobko, Y.O. ; Fujita, M. ; Nakagawa, H.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part Two  pp.1044-1054,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
6.

国際会議録
国際会議録
6. Thermomechanical modeling of the pin-chucked EUV reticle during exposure
Wei, A.C. ; Martin, C.J. ; Beckman, W.A. ; Mitchell, J.W. ; Engelstad, R.L. ; Lovell, E.G. ; Blaedel, K.L.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies VI.  Part Two  pp.743-754,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4688
7.

国際会議録
国際会議録
7. Thermamechanical global response of the EUVL wafer during exposure
Chang, J. ; Martin, C.J. ; Engelstad, R.L. ; Lovell, E.G.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies VI.  Part Two  pp.755-766,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4688
8.

国際会議録
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8. Mechanical modeling of the reticle and chuck for EUV lithography
Martin, C.J. ; Mikkelson, A.R. ; Tejeda, R.O. ; Engelstad, R.L. ; Lovell, E.G. ; Blaedel, K.L. ; Claudet, A.A.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies VI.  Part One  pp.194-204,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4688
9.

国際会議録
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9. Hard pellicle study for 157-nm lithography
Shu, E.Y. ; Lo, F.-C. ; Eschbach, F.O. ; Cotte, E.P. ; Engelstand, R.L. ; Lovell, E.G. ; Okada, K. ; Kikugawa, S.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX.  pp.558-569,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4754
10.

国際会議録
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10. Pellicle-induced distortions in advance photomasks
Fujita, M. ; Akiyama, M. ; Kondo, M. ; Nakagawa, H. ; Tanzil, D. ; Eschbach, F.O. ; Cotte, E.P. ; Engelstad, R.L. ; Lovell, E.G.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX.  pp.589-596,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4754