1.

国際会議録
国際会議録
1. A LOW-TEMPERATURE PROCESS FOR DEVICE QUALITY Si/SiO2 INTERFACES ON Si(111)
Yasuda, T. ; Lee, D. R. ; Bjorkman, C. H. ; Ma, Y. ; Lucovsky, G. ; Emmerichs, U. ; Meyer, C. ; Leo, K. ; Kurz, H.
出版情報: Surface chemical cleaning and passivation for semiconductor processing.  pp.375-,  1993.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 315
2.

国際会議録
国際会議録
2. Substrate Surface Dependence of the Microstructure of ｦﾌc-Si,Ge:H Deposited by Reactive Magnetron Sputtering (RMS)
Cho, S. M. ; Christensen, K. ; Wolfe, D. ; Ying, H. ; Lee, D. R. ; Lucovsky, G. ; Maher, D. M.
出版情報: Surface/interface and stress effects in electronic material nanostructures : symposium held November 27-December 1, 1995, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.241-,  1996.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 405
3.

国際会議録
国際会議録
3. Incorporation of Nitrogen Atoms at Si/SiO2 Interfaces of Field Effect Transistors (FETs) to Improve Device Reliability
Lucovsky, G. ; Lee, D. R. ; Jing, Z. ; Whitten, J. L. ; Parker, C. ; Hauser, J. R.
出版情報: Surface/interface and stress effects in electronic material nanostructures : symposium held November 27-December 1, 1995, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.321-,  1996.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 405
4.

国際会議録
国際会議録
4. AFM Analysis of HF Vapor Cleaned SiO2 Surfaces
Carter,R. J. ; Bergman, E. J. ; Lee, D. R. ; Owyang, J. ; Nemanich, R. J.
出版情報: Science and technology of semiconductor surface preparation : symposium held April 1-3, 1997, San Francisco, California, U.S.A..  pp.481-,  1997.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 477