1.

国際会議録
国際会議録
1. Kinetics Investigation of Remote Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition of SiO2
Courtney, C.H. ; Lamb, H.H.
出版情報: Proceedings of the Thirteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition.  pp.177-182,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-5
2.

国際会議録
国際会議録
2. SURFACE CLEANING PRIOR TO FORMATION OF Si/SiO2 INTERFACES BY REMOTE PLASMA-ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION (RPECVD)
Lamb, H.H. ; Kalem, S. ; Bedge, S. ; Yasuda, T. ; Ma, Y. ; Lucovsky, G.
出版情報: Chemical surface preparation, passivation, and cleaning for semiconductor growth and processing : symposium held April 27-29, 1992, San Francisco, California, U.S.A..  pp.75-80,  1992.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 259