1.

国際会議録
国際会議録
1. Image-blur tolerances for 65-nm and 45-nm node IC manufacturing
Lalovic, I. ; Kroyan, A. ; Kye, J. ; Liu, H.-Y. ; Levinson, H.J.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part Three  pp.1570-1580,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
2.

国際会議録
国際会議録
2. Influence of laser spatial parameters and illuminator pupil-fill performance on the lithographic performance of a scannar
Renwick, S.P. ; Slonaker, S.D. ; Lalovic, I. ; Ahmed, K.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part Two  pp.1400-1411,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
3.

国際会議録
国際会議録
3. Characterization of line-edge roughness in photoresist using an image fading technique
Pawloski, A.R. ; Acheta, A. ; Lalovic, I. ; Fontaine, B.M.L. ; Levinson, H.J.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXI.  pp.414-425,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5376