1.

国際会議録
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1. Mask topography eftect with polarization at hyper NA [6154-171]
Yamamoto, N. ; Kye, J. ; Levinson, H. J.
出版情報: Optical Microlithography XIX.  pp.61544F-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6154
2.

国際会議録
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2. Polarization aberration analysis in optical lithography systems [6154-14]
Kye, J. ; Mclntyre, G. ; Norihiro, Y ; Levinson, J.
出版情報: Optical Microlithography XIX.  pp.61540E-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6154
3.

国際会議録
国際会議録
3. Image-blur tolerances for 65-nm and 45-nm node IC manufacturing
Lalovic, I. ; Kroyan, A. ; Kye, J. ; Liu, H.-Y. ; Levinson, H.J.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part Three  pp.1570-1580,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
4.

国際会議録
国際会議録
4. Spherical aberration measurement and in-situ correction
Acheta, A. ; Kye, J. ; Levinson, H.J.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part Two  pp.1474-1479,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
5.

国際会議録
国際会議録
5. Interferometric-probe aberration monitor performance in the production environment
Robins, G.C. ; Neureuther, A.R. ; Dusa, M. ; Kye, J.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.1971-1982,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
6.

国際会議録
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6. Analysis of focus errors in lithography using phase-shift monitors
La Fontaine, B. ; Dusa, M.V. ; Krist, J. ; Acheta, A. ; Kye, J. ; Levinson, H.J. ; Luijten, C. ; Sager, C.B. ; Thomas, J. ; van Praagh, J.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part One  pp.315-324,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691