1.

国際会議録
国際会議録
1. Characterization of 2-Dimensional Dopant Profiles; Status and Review
Diebold, A.C. ; Kump, M. ; Kopanski, J.J. ; Seiler, D.G.
出版情報: Proceedings of the Symposium on Diagnostic Techniques for Semiconductor Materials and Devices.  pp.78-97,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-33
2.

国際会議録
国際会議録
2. Band Alignment Issues in Metal/Dielectric Stacks: A Combined Photoemission and Inverse Photoemission Study of the HfO2/Pt and HfO2/Hf Systems
Sayan, S. ; Bartynski, R.A. ; Robertson, J. ; Suehle, J.S. ; Vogel, E. ; Nguyen, N.V. ; Ehrstein, J. ; Kopanski, J.J. ; Suzer, S. ; Holl, M.B. ; Garfunkel, E.
出版情報: Advanced short-time thermal processing for Si-based CMOS devices : proceedings of the international symposium.  pp.255-263,  2004.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2004-01
3.

国際会議録
国際会議録
3. Practical Metrology Aspects of Scanning Capacitance Microscopy for Silicon 2-D Dopant Profiling
Kopanski, J.J. ; Marchiando, J.F. ; Alvis, R.
出版情報: Proceedings of the Electrochemical Society Symposium on Diagnostic Techniques for Semiconductor Materials and Devices.  pp.102-113,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-12