1.

国際会議録
国際会議録
1. Analysis of solvent effect to control the BARC coating uniformity
Jung, M.-H. ; Yoon, S. ; Chung, E.-S. ; Yoo, B.-S. ; Ya, J.Y. ; Winning, D. ; Kim, B.D. ; Lee, H. ; Kim, D.Y. ; Kim, Y.H. ; Kim, M. ; Chon, S.-M.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXI.  pp.703-710,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5376
2.

国際会議録
国際会議録
2. Influence of resin properties to resist performance at ArF lithography
Yoon, S. ; Kim, M. ; Lee, H. ; Kim, D.Y. ; Kim, Y.H. ; Kim, B.D. ; Kim, J.H. ; Kim, K.-M. ; Lee, S.Y. ; Chon, S.-M.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXI.  pp.583-590,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5376