1.

国際会議録
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1. Differences in pattern displacement error under different illumination conditions
Seong,N.-G. ; Kye,J.-W. ; Kang,H.-Y. ; Moon,J.-T.
出版情報: Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California.  pp.868-872,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3334
2.

国際会議録
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2. Evaluation of phase-edge phase-shifting mask for sub-0.18-ｦﾌm gate patterns in logic devices
Cha,D.-H. ; Kye,J.-W. ; Seong,N.-G. ; Kang,H.-Y. ; Cho,H.-K. ; Moon,J.-T.
出版情報: Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California.  pp.46-54,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3334
3.

国際会議録
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3. CD control for quarter-micron logic device gates using iso-pitch bias
Kim,Y.-C. ; Yeo,G.-S. ; Shin,H.-S. ; Kim,H. ; Kang,H.-Y. ; Chung,U-I.
出版情報: Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California.  pp.629-639,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3334
4.

国際会議録
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4. Defect inspection and printability of deep-UV halftone phase-shifting mask
Kim,H.-J. ; Hong,J.-S. ; Kye,J.-W. ; Cha,D.-H. ; Kang,H.-Y. ; Moon,J.-T.
出版情報: 17th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management.  pp.430-440,  1998.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3236
5.

国際会議録
国際会議録
5. Optical proximity correction of bit line pattern in DRAM devices
Kim,Y.-B. ; Sohn,C.-J. ; Kang,H.-Y. ; Han,W.-S. ; Koh,Y.-B.
出版情報: Optical Microlithography IX.  Part2  pp.670-679,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2726
6.

国際会議録
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6. Swing curve characteristics of halftone PSM with off-axis illumination for i-line lithography
Choi,Y.-S. ; Kang,H.-Y. ; Han,W.-S. ; Koh,Y.-B.
出版情報: Optical Microlithography IX.  Part2  pp.508-515,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2726
7.

国際会議録
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7. Application of alternating phase-shifting masks to sub-quarter-micrometer contact holes
Lim,S.-C. ; Kye,J.-W. ; Woo,S.-G. ; Kim,S.-G. ; Kang,H.-Y. ; Han,W.-S. ; Koh,Y.-B.
出版情報: Optical Microlithography IX.  Part2  pp.516-523,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2726
8.

国際会議録
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8. Fabrication of dense contact patterns using halftone phase-shifting mask with off-axis illumination
Kim,H.-J. ; Kye,J.-W. ; Lee,D.-Y. ; Woo,S.-G. ; Kang,H.-Y. ; Koh,Y.-B.
出版情報: Photomask and X-Ray Mask Technology III.  pp.106-114,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2793
9.

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9. Line-width variation with different sublayers for 0.25-ｦﾌm minimum feature size in DUV lithography
Oh,H.-K. ; Cho,S.-Y. ; Jeong,Y.-U. ; Kang,H.-Y. ; Lee,G.-S. ; An,I. ; Park,I.-H.
出版情報: Optical Microlithography X.  pp.215-224,  1997.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3051