1.

国際会議録
国際会議録
1. Imaging performance of scanning exposure systems
Ebinuma,R. ; Iwamoto,K. ; Takeishi,H. ; Itoh,H. ; Inoue,M. ; Takahashi,K. ; Ohta,M.
出版情報: Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California.  pp.437-447,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3334
2.

テクニカルペーパー
テクニカルペーパー
2. Combustion of Used Lubricating Oil in a Diesel Engine
Tajima,H. ; Takasaki,K. ; Nakashima,M. ; Yanagi,J. ; Takaishi,T. ; Ishida,H. ; Osafune,S. ; Iwamoto,K.
出版情報: 2001 International Spring Fuels and Lubricants Meeting : SAE technical paper.  pp.1-6,  2001.  Warrendale, Penn..  Society of Automotive Engineers
シリーズ名: Society of Automotive Engineers technical paper series
シリーズ巻号: 2001
3.

テクニカルペーパー
テクニカルペーパー
3. Combustion of Used Lubricating Oil in a Diesel Engine
Tajima,H. ; Takasaki,K. ; Nakashima,M. ; Yanagi,J. ; Takaishi,T. ; Ishida,H. ; Osafune,S. ; Iwamoto,K.
出版情報: Diesel and gasoline : performance and additives.  pp.39-44,  2001.  Warrendale, Pa..  Society of Automotive Engineers
シリーズ名: SAE special publication
シリーズ巻号: SP-1628
4.

国際会議録
国際会議録
4. Mask blanks warpage at 130-nm node
Deguchi,N. ; Iwamoto,K. ; Tsukamoto,I. ; Takai,R. ; Hiura,M.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VIII.  pp.364-371,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4409
5.

国際会議録
国際会議録
5. New scanners for the 100-nm era
Iwamoto,K. ; Sakai,F.M.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.621-633,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346
6.

国際会議録
国際会議録
6. Stencil masks for electron-beam projection lithography
Kurihara,K. ; Iriguchi,H. ; Motoyoshi,A. ; Tabata,T. ; Takahashi,S. ; Iwamoto,K. ; Okada,I. ; Yoshihara,H. ; Noguchi,H.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VIII.  pp.726-733,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4409