1.

国際会議録
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1. Fully Depleted SIMOX SOI Process Technology for Low Power Digital and RF Device
Itoh, M. ; Kawai, Y. ; Ito, S. ; Yokomizo, K. ; Katakura, Y. ; Fukuda, Y. ; Ichikawa, F.
出版情報: Silicon-on-Insulator Technology and Devices X : proceedings of the tenth International Symposium.  pp.331-336,  2001.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2001-3
2.

国際会議録
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2. FORMATION OF SILICON NITRIDE FILMS NEWLY DEVELOPED BY THE ION AND VAPOUR DEPOSITION METHOD
Sugawara, F. ; Ajioka, T. ; Ichikawa, F. ; Ushio, S.
出版情報: Thin films : interfaces and phenomena : symposium held December 2-6, 1985, Boston, Massachusetts, USA.  pp.535-540,  1985.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 54
3.

国際会議録
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3. Fully depleted SOI process and device technology for digital and RF application
Ichikawa, F. ; Nagatomo, Y. ; Katakura, Y. ; Itoh, S. ; Matsuhashi, H. ; Hirashita, N. ; Baba, S.
出版情報: Silicon-on-insulator technology and devices XI : proceedings of the international symposium.  pp.123-132,  2003.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-5
4.

国際会議録
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4. Fully Depleted SOI Process and Device Technology for Digital and RF Applications*
Ichikawa, F. ; Nagatomo, V. ; Katakura, V. ; Itoh, S. ; Matsuhashi, H. ; Hirashita, N. ; Baba, S.
出版情報: ULSI Process Integration : proceedings of the International Symposium.  pp.546-555,  2003.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-6
5.

国際会議録
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5. Congormation and structure of extrusion polymer by the coputed digital tomography image
Li, L. ; Aizawa, K. ; Ichikawa, F.
出版情報: Optics in Health Care and Biomedical Optics: Diagnostics and Treatment.  pp.515-521,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4916