1.

国際会議録
国際会議録
1. Benchmark and gap analysis of current mask carriers vs future requirements: example of the carrier contamination
H. Fontaine ; M. Davenet ; D. Cheung ; I. Hoellein ; P. Richsteiger ; P. Dejaune ; A. Torsy
出版情報: EMLC 2007 : 23rd european mask and lithography conference : 22-25 January 2007, Grenoble, France.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6533
2.

国際会議録
国際会議録
2. Optimal mask characterization by Surrogate Wafer Print (SWaP) method
K. R. Kimmel ; I. Hoellein ; J. H. Peters ; P. Ackmann ; B. Connolly
出版情報: Photomask technology 2008.  1  pp.712219-1-712219-10,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7122