1.

国際会議録
国際会議録
1. EFFECT OF RIE SEQUENCE AND POST-RIE SURFACE PROCESSING ON THE RELIABILITY OF GATE OXIDE lN A TRENCH
Grebs, T. ; Ridley, R. ; Chang, K. ; Wu, C.-T. ; Agarwal, R. ; Mytych, J. ; Dimachkie, W. ; Dolny, G. ; Michalowicz, J. ; Ruzyllo, J.
出版情報: Cleaning technology in semiconductor device manufacturing VIII : proceedings of the international symposium.  pp.108-115,  2003.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-26
2.

国際会議録
国際会議録
2. Processing of Thick Thermal Gate Oxides in Trenchs
Wu, C.T. ; Ridley, R. ; Dolny, G. ; Grebs, T. ; Hao, J. ; Suliman, S. ; Venkataraman, B. ; Awadelkarim, O. ; Williams, R. ; Roman, P. ; Ruzyllo, J.
出版情報: Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films : proceedings of the sixth International Symposium.  pp.127-133,  2001.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2001-7
3.

国際会議録
国際会議録
3. THICKNESS DEPENDENT SENSITIVITY OF GATE OXIDES TO SURFACE CONTAMINATION
Ridley, R. ; Wu, C.-T. ; Roman, P. ; Dolny, G. ; Grebs, T. ; Stensney, F. ; Ruzyllo, J.
出版情報: Cleaning technology in semiconductor device manufacturing : proceedings of the sixth international symposium.  pp.158-164,  1999.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-36
4.

国際会議録
国際会議録
4. Recent Advances in Fully-Scanned Active Matrix Displays Using Silicon-on-Insulator Technology
Dolny, G. ; Ipri, A.C. ; Hsueh, F-L. ; Stewart, R.G. ; Atherton, J. ; Cuomo, F. ; Jose, D. ; Spitzer, M. ; Batty, D-P. VuM. ; Khormaei, R. ; Keyser, T. ; Becker, G. ; Tilton, M. ; Rhoades, R. ; Ellis, R. ; Franklin, H. ; Helgeson, M.
出版情報: Proceedings of the Third International Symposium on Semiconductor Wafer Bonding : physics and applications.  pp.426-433,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-7