1.

国際会議録
国際会議録
1. Poly(glycidyl methacrylate-block-styrene) for Photolithographically Patternable Resist Materials
Qin Lou ; Devon A. Shipp
出版情報: Progress in controlled radical polymerization : materials and applications.  pp.115-126,  2012.  Washington, DC.  American Chemical Society
シリーズ名: ACS symposium series
シリーズ巻号: 1101
2.

国際会議録
国際会議録
2. Manipulating Structures of Block Copolymers with Functionalized Layered Silicates
Liang Xu ; Ashoutosh Panday ; Devon A. Shipp ; S.P. Gido ; Ramanan Krishnamoorti
出版情報: 2006 AIChE annual meeting, November 12-17, 2006, San Francisco, California, San Francisco Hilton : conference proceedings. Non-topical conferences.  2006.  New York.  American Institute of Chemical Engineers
シリーズ名: AIChE Conference Proceedings
シリーズ巻号: P-235