1.

国際会議録
国際会議録
1. Novel x-ray mask structure with low out-of-plane distortion
Jeon,Y.J. ; Choi,S.-S. ; Kim,I.Y. ; Chung,H.B. ; Kim,B.W.
出版情報: Emerging lithographic technologies II : 23-25 February 1998, Santa Clara, California.  pp.511-517,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3331
2.

国際会議録
国際会議録
2. Novel antireflective structure for metal layer patterning
Choi,S.-S. ; Cha,H.S. ; Kim,J.-S. ; Park,J.M. ; Kim,D.H. ; Lee,K.H. ; Ahn,J. ; Chung,H.B. ; Kim,B.W.
出版情報: Advances in resist technology and processing XV : 23-25 February 1998, Santa Clara, California.  Part 1  pp.336-346,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3333
3.

国際会議録
国際会議録
3. Design of illumination aperture for ArF exposure system with wide exposing latitude
Choi,S.-S. ; Cha,H.S. ; Kim,J.-S. ; Lee,K.H. ; Kim,D.H. ; Chung,H.B. ; Kim,D.Y.
出版情報: Optical microlithography XII : 17-19 March 1999, Santa Clara, California.  Part2  pp.792-799,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3679
4.

国際会議録
国際会議録
4. Alignment system for ArF excimer-laser-based step-and-scan system
Kim,D.H. ; Kim,J.S. ; Sohn,Y.J. ; Kwon,J.H. ; Lee,K.H. ; Choi,S.-S. ; Chung,H.B. ; Yoo,H.J. ; Kim,B.W.
出版情報: Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California.  pp.958-970,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3334
5.

国際会議録
国際会議録
5. Design of illumination system for ArF excimer laser step-and-scanner
Lee,K.H. ; Kim,D.H. ; Kim,J.S. ; Choi,S.-S. ; Chung,H.B. ; Yoo,H.J. ; Kim,B.W.
出版情報: Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California.  pp.997-1004,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3334
6.

国際会議録
国際会議録
6. A Holographic Optical Element for the Wide Angle Color Holographic Car Display,
Son,J.-Y. ; Smirnov,V.V. ; Lee,H.-S. ; Choi,S.-S. ; Kang,B.-J.
出版情報: Optics for science and new technology : 17th Congress of the International Commission for Optics, August 19-23, 1996, Hotel Riviera(Yusong), Taejon Korea.  Part2  pp.965-966,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2778
7.

国際会議録
国際会議録
7. Optimization of electron-beam lithography for super-low-noise HEMTs
Choi,S.-S. ; Lee,J.-H. ; Yun,H.S. ; Chung,H.B. ; Lee,S.Y. ; Yoo,H.J.
出版情報: Electron-beam, X-ray, EUV, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing VI : 11-13 March 1996, Santa Clara, California.  pp.372-382,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2723
8.

国際会議録
国際会議録
8. Damage characterization of SiN x-ray mask membrane caused by electron-beam exposure
Choi,S.-S. ; Jeon,Y.J. ; Kim,J.-S. ; Chung,H.B. ; Lee,S.Y. ; Lee,J.H. ; Yoo,H.J.
出版情報: Electron-beam, X-ray, EUV, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing VI : 11-13 March 1996, Santa Clara, California.  pp.321-331,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2723
9.

国際会議録
国際会議録
9. Defects analysis of mask blanks
Lee,D.H. ; Kim,D.W. ; Lee,J.K. ; Jeong,W.G. ; Choi,S.-S. ; Jung,S.-M. ; Jeong,S.-H.
出版情報: 21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  4562  pp.571-576,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4562
10.

国際会議録
国際会議録
10. Dry etching characteristics of attenuated phase-shifting masks using Cl2/CF4/O2/He plasmas
Choi,S.J. ; Cha,H.-S. ; Yoon,S.-Y. ; Jung,S.-M. ; Choi,S.-S. ; Jeong,S.-H.
出版情報: 21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  4562  pp.561-570,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4562