1.

国際会議録
国際会議録
1. The effect of polarized 193nm irradiation on photomask haze formation
Kim, Y. D. ; Kang, H. B. ; Zhang, Y. ; Tran, C. ; Farrar, N. ; Qin, J. ; Rockwell, B. ; Cho, H. J. ; Cottle, R. ; Chan, D. ; Martin, P. ; Choi, S. S. ; Progler, C.
出版情報: Optical microlithography XVIII : 1-4 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.1586-1590,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5754
2.

国際会議録
国際会議録
2. Design and fabrication of a micromirror array for autostereoscopic 3D displays
Yan, J. ; Kowel, S. T. ; Cho, H. J. ; Ahn, C. H.
出版情報: Stereoscopic Displays and Virtual Reality Systems IX.  pp.222-228,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4660