1.

国際会議録
国際会議録
1. Manufacturing implementation of IML technology for 45nm node contact masks [6283-65]
Van Den Broeke, D. ; Hsu, M. ; Chen, F. J. ; Hsu, S. ; Hollerbach, U. ; Laidig, Y.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII.  pp.62831C-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6283
2.

国際会議録
国際会議録
2. RET masks for petterning 45nm node contact hole using ArF immersion lithography [6283-114]
Hsu, M. ; Chen, F. J. ; Van Den Broeke, D. ; En Tszng, S. ; Shieh, J. ; Hsu, S. ; Shi, X.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII.  pp.628317-628317,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6283
3.

国際会議録
国際会議録
3. A single-exposure approach for petterning 45 nm flash/DRAM contacthole mask [6283-117]
Chen, T. ; Van Den Broeke, D. ; Tejnil, E. ; Hsu, S. ; Park, S. ; Berger, G. ; Coskun, T. ; De Vocht, J. ; Corcoran, N. ; Chen, F. J. ; van der Heijden, E. ; Finders, J. ; Engelen, A. ; Socha, R.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII.  pp.62831A-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6283
4.

国際会議録
国際会議録
4. Dark field double dipole lithography (DDL) for 45 nm node and beyond [6283-103]
Hsu, S. ; Burkhardt, M. ; Park, J. ; Van Den Broeke, D. ; Chen, F. J.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII.  pp.62830U-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6283